Avis concernant l'approvisionnement stable à long terme en SiC de 8 pouces

Actuellement, notre société peut continuer à fournir de petits lots de plaquettes SiC de type N de 8 pouces. Si vous souhaitez recevoir des échantillons, n'hésitez pas à me contacter. Nous avons quelques plaquettes d'échantillon prêtes à être expédiées.

Avis concernant l'approvisionnement stable à long terme en SiC de 8 pouces
Approvisionnement stable à long terme en SiC de 8 pouces, avis 1

Dans le domaine des matériaux semi-conducteurs, l'entreprise a réalisé une avancée majeure dans la recherche et le développement de cristaux de SiC de grande taille. Grâce à l'utilisation de ses propres germes cristallins, après plusieurs cycles d'augmentation de diamètre, elle a réussi à faire croître des cristaux de SiC de type N de 8 pouces. Cette avancée résout des problèmes complexes tels que l'hétérogénéité du champ thermique, la fissuration des cristaux et la distribution des matières premières en phase gazeuse lors de la croissance de cristaux de SiC de cette taille. Elle accélère ainsi la croissance de cristaux de SiC de grande taille et le développement d'une technologie de traitement autonome et contrôlable. Cette technologie renforce considérablement la compétitivité de l'entreprise dans le secteur des substrats monocristallins de SiC. Parallèlement, l'entreprise encourage activement l'accumulation de technologies et de procédés pour sa ligne expérimentale de préparation de substrats en carbure de silicium de grande taille, renforce les échanges techniques et la collaboration industrielle en amont et en aval, et travaille en étroite collaboration avec ses clients pour améliorer continuellement les performances des produits et accélérer conjointement l'application industrielle des matériaux en carbure de silicium.

Spécifications du processeur DSP SiC de type N de 8 pouces

Nombre Article Unité Production Recherche Factice
1. Paramètres
1.1 polytype -- 4H 4H 4H
1.2 orientation de surface ° <11-20>4±0,5 <11-20>4±0,5 <11-20>4±0,5
2. Paramètre électrique
2.1 dopant -- Azote de type n Azote de type n Azote de type n
2.2 résistivité ohm ·cm 0,015~0,025 0,01~0,03 NA
3. Paramètre mécanique
3.1 diamètre mm 200±0,2 200±0,2 200±0,2
3.2 épaisseur μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Orientation de l'encoche ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 Profondeur de l'encoche mm 1~1,5 1~1,5 1~1,5
3.5 LTV μm ≤5(10 mm*10 mm) ≤5(10 mm*10 mm) ≤10 (10 mm * 10 mm)
3.6 TTV μm ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Arc μm -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Chaîne μm ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0,2 Ra≤0,2 Ra≤0,2
4. Structure
4.1 densité de micropipes ea/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 teneur en métaux atomes/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD ea/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 trouble de la personnalité limite ea/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED ea/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Qualité positive
5.1 devant -- Si Si Si
5.2 finition de surface -- CMP à face Si CMP à face Si CMP à face Si
5.3 particule ea/wafer ≤100 (taille ≥ 0,3 μm) NA NA
5.4 gratter ea/wafer ≤5, Longueur totale ≤200 mm NA NA
5.5 Bord
éclats/bosses/fissures/taches/contamination
-- Aucun Aucun NA
5.6 Zones polytypes -- Aucun Surface ≤10% Surface ≤30%
5.7 marquage avant -- Aucun Aucun Aucun
6. Qualité du dos
6.1 finition arrière -- Député C-face Député C-face Député C-face
6.2 gratter mm NA NA NA
6.3 Défauts de bord arrière
éclats/bosses
-- Aucun Aucun NA
6.4 Rugosité du dos nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Marquage arrière -- Entailler Entailler Entailler
7. Bord
7.1 bord -- Chanfreiner Chanfreiner Chanfreiner
8. Emballage
8.1 conditionnement -- Epi-ready avec vide
conditionnement
Epi-ready avec vide
conditionnement
Epi-ready avec vide
conditionnement
8.2 conditionnement -- Multi-plaquettes
emballage de cassette
Multi-plaquettes
emballage de cassette
Multi-plaquettes
emballage de cassette

Date de publication : 18 avril 2023