Tige et goupille de levage en saphir industriel, goupille en saphir Al2O3 haute dureté pour la manipulation de plaquettes, les systèmes radar et le traitement des semi-conducteurs – Diamètre 1,6 mm à 2 mm
Abstrait
Les tiges et axes de levage industriels en saphir sont conçus avec précision et robustesse pour les applications exigeantes telles que la manipulation de plaquettes, les systèmes radar et le traitement des semi-conducteurs. Fabriqués en Al₂O₃ monocristallin (saphir), ces axes offrent une dureté et une résistance thermique exceptionnelles. Disponibles en diamètres de 1,6 mm à 2 mm, ces tiges et axes de levage sont personnalisables pour répondre aux besoins spécifiques des industries. Leur excellente résistance aux rayures et leur faible usure en font des composants essentiels pour les systèmes haute performance.
Caractéristiques
● Haute dureté et durabilité :Avec une dureté Mohs de 9, ces broches et tiges sont résistantes aux rayures, assurant une performance durable dans les applications à forte usure.
●Tailles personnalisables :Disponibles en diamètres de 1,6 mm à 2 mm, avec la possibilité de dimensions personnalisées pour répondre à des besoins d'application spécifiques.
●Résistance thermique :Le point de fusion élevé du saphir (2040°C) garantit que ces broches peuvent résister à des environnements à haute température sans se dégrader.
● Excellentes propriétés optiques :La clarté optique intrinsèque du saphir rend ces goupilles de levage adaptées à une utilisation dans les systèmes optiques et les dispositifs de précision.
●Faible friction et usure :La surface lisse du saphir minimise l'usure de la goupille de levage et de l'équipement, réduisant ainsi les coûts de maintenance.
Applications
●Manipulation des plaquettes :Utilisé dans le traitement des semi-conducteurs pour la manipulation délicate des plaquettes.
●Systèmes radar :Broches haute performance utilisées dans les systèmes radar pour leur durabilité et leur précision.
● Traitement des semi-conducteurs :Idéal pour la manipulation de plaquettes et autres composants dans les processus de fabrication de semi-conducteurs de haute technologie.
●Systèmes industriels :Adapté à diverses applications industrielles exigeant une durabilité et une précision élevées.
Paramètres du produit
| Fonctionnalité | Spécification |
| Matériel | Al2O3 monocristallin (saphir) |
| Dureté | Mohs 9 |
| Plage de diamètres | 1,6 mm à 2 mm |
| Conductivité thermique | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Point de fusion | 2040°C |
| Densité | 3,97 g/cm³ |
| Applications | Manipulation de plaquettes, systèmes radar, traitement des semi-conducteurs |
| Personnalisation | Disponible en tailles personnalisées |
Questions et réponses (Foire aux questions)
Q1 : Pourquoi le saphir est-il un bon matériau pour les broches de levage utilisées dans la manipulation des plaquettes ?
A1 : Le saphir est trèsrésistant aux rayureset a unpoint de fusion élevé, ce qui en fait un excellent matériau pour les opérations délicates telles quemanipulation des plaquettes, où la précision et la durabilité sont essentielles.
Q2 : Quel est l'avantage de personnaliser la taille des goupilles de levage en saphir ?
A2 : Les dimensions personnalisées permettent d’adapter ces axes de levage à des applications spécifiques, garantissant ainsi des performances optimales dans divers systèmes, notamment :traitement des semi-conducteursetsystèmes radar.
Q3 : Les broches de levage en saphir peuvent-elles être utilisées dans des applications à haute température ?
A3 : Oui,saphira unpoint de fusion élevéde2040°Cce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements à haute température.
Diagramme détaillé
