Broches de levage en saphir de qualité supérieure, broche de levage de plaquette en Al₂O₃ monocristallin

Description courte :

Les broches de levage en saphir représentent une avancée majeure dans le domaine des composants de traitement des semi-conducteurs. Fabriquées à partir de saphir monocristallin ultra-pur (Al₂O₃), elles répondent aux exigences rigoureuses des technologies de microfabrication modernes. Ces composants de précision sont devenus indispensables à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, aux systèmes de croissance épitaxiale de LED et aux applications de traitement de plaquettes avancées. La structure cristalline unique du saphir synthétique confère à ces broches des propriétés exceptionnelles, leur permettant de surpasser les solutions conventionnelles dans les environnements opérationnels les plus difficiles. Leur stabilité thermique exceptionnelle garantit leur intégrité mécanique malgré des gradients de température extrêmes, tandis que leur résistance chimique intrinsèque assure des performances constantes face aux procédés chimiques agressifs. Cette combinaison d'atouts fait des broches de levage en saphir la solution de choix pour les applications critiques de manipulation de plaquettes où la précision nanométrique, la maîtrise de la contamination et la fiabilité du processus sont primordiales.


Caractéristiques

Paramètres techniques

composition chimique Al2O3
Dureté 9 Mohs
nature optique Uniaxial
Indice de réfraction 1,762-1,770
Biréfringence 0,008-0,010
Dispersion Faible, 0,018
Lustre Vitreux
Pléochroïsme Modéré à fort
Diamètre 0,4 mm à 30 mm
Tolérance de diamètre 0,004 mm - 0,05 mm
longueur 2 mm-150 mm
tolérance de longueur 0,03 mm - 0,25 mm
Qualité de surface 40/20
arrondi de la surface RZ0.05
Forme personnalisée les deux extrémités plates, une extrémité arrondie, les deux extrémités arrondies,
broches de selle et formes spéciales

Caractéristiques principales

1. Dureté et résistance à l'usure exceptionnelles : Avec une dureté de 9 sur l'échelle de Mohs, juste après le diamant, les broches de levage en saphir présentent des caractéristiques d'usure nettement supérieures aux alternatives traditionnelles en carbure de silicium, en céramique d'alumine ou en alliage métallique. Cette dureté extrême se traduit par une réduction significative de la production de particules et des besoins de maintenance, avec une durée de vie généralement 3 à 5 fois supérieure à celle des matériaux conventionnels dans des applications comparables.

2. Résistance supérieure aux hautes températures : Conçues pour supporter un fonctionnement continu à des températures supérieures à 1 000 °C sans dégradation, les broches de levage en saphir conservent leur stabilité dimensionnelle et leur résistance mécanique même dans les procédés thermiques les plus exigeants. Elles sont ainsi particulièrement précieuses pour les applications critiques telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD) et les systèmes de recuit à haute température, où les différences de dilatation thermique peuvent compromettre les rendements.

3. Inertie chimique : La structure monocristalline du saphir présente une résistance remarquable à l’attaque de l’acide fluorhydrique, des produits chimiques chlorés et autres gaz de procédé agressifs couramment utilisés dans la fabrication des semi-conducteurs. Cette stabilité chimique garantit des performances constantes en environnement plasma et prévient la formation de défauts de surface susceptibles de contaminer les plaquettes.

4. Faible contamination particulaire : Fabriquées à partir de cristaux de saphir de haute pureté (généralement > 99,99 %), exempts de défauts, ces broches de levage présentent une libération de particules minimale, même après une utilisation prolongée. Leur structure de surface non poreuse et leurs finitions polies répondent aux exigences les plus strictes des salles blanches, contribuant ainsi directement à l’amélioration des rendements de production dans la fabrication de semi-conducteurs de dernière génération.

Usinage de haute précision : grâce à des techniques avancées de rectification au diamant et de traitement laser, les broches de levage en saphir peuvent être produites avec des tolérances submicroniques et des états de surface inférieurs à 0,05 µm Ra. Des géométries personnalisées, notamment des profils coniques, des configurations de pointes spéciales et des dispositifs d’alignement intégrés, peuvent être conçues pour répondre aux défis spécifiques de manipulation des plaquettes dans les équipements de fabrication de nouvelle génération.

Applications principales

1. Fabrication de semi-conducteurs : Les broches de levage en saphir jouent un rôle crucial dans les systèmes de traitement de plaquettes avancés, assurant un support fiable et un positionnement précis lors des processus de photolithographie, de gravure, de dépôt et d’inspection. Leur stabilité thermique et chimique les rend particulièrement précieuses pour les outils de lithographie EUV et les applications d’encapsulation avancées où la stabilité dimensionnelle à l’échelle nanométrique est essentielle.

2. Épitaxie LED (MOCVD) : Dans les systèmes de croissance épitaxiale de nitrure de gallium (GaN) et de semi-conducteurs composés apparentés, les broches de levage en saphir assurent un support stable de la plaquette à des températures dépassant souvent 1 000 °C. Leurs caractéristiques de dilatation thermique adaptées aux substrats en saphir minimisent la courbure de la plaquette et la formation de glissements pendant le processus de croissance épitaxiale.

3. Industrie photovoltaïque : La fabrication de cellules solaires à haut rendement tire parti des propriétés uniques du saphir lors des procédés de diffusion à haute température, de frittage et de dépôt de couches minces. La résistance à l’usure des broches est particulièrement précieuse dans les environnements de production de masse où la longévité des composants influe directement sur les coûts de fabrication.

4. Optique de précision et traitement électronique : Outre les applications pour semi-conducteurs, les broches de levage en saphir sont utilisées pour la manipulation de composants optiques délicats, de dispositifs MEMS et de substrats spéciaux où un traitement sans contamination et la prévention des rayures sont essentiels. Leurs propriétés d’isolation électrique les rendent idéales pour les applications impliquant des dispositifs sensibles à l’électricité statique.

Services XKH pour les goupilles de levage en saphir

XKH fournit une assistance technique complète et des solutions personnalisées pour les broches de levage Sapphire :

1. Services de développement sur mesure
• Prise en charge de la personnalisation dimensionnelle, géométrique et du traitement de surface
• Recommandations concernant la sélection des matériaux et l'optimisation des paramètres techniques
• Conception collaborative de produits et vérification par simulation
2. Capacités de fabrication de précision
• Usinage de haute précision avec des tolérances contrôlées à ±1 μm
• Traitements spéciaux, notamment polissage miroir et chanfreinage des bords
• Solutions optionnelles de modification de surface telles que les revêtements antiadhésifs
3. Système d'assurance qualité
• Mise en œuvre rigoureuse du contrôle des matières premières et des processus
• Inspection optique complète et analyse de la morphologie de surface
• Fourniture de rapports d'essais de performance des produits
4. Services de chaîne d'approvisionnement
Livraison rapide des produits standard
• Gestion des stocks dédiée aux comptes clés
5. Assistance technique
Conseil en solutions applicatives
• Réponse rapide après-vente
Nous nous engageons à fournir des broches de levage en saphir de haute qualité et des services techniques professionnels pour répondre aux exigences strictes des industries des semi-conducteurs, des LED et autres industries de pointe.

Goupilles de levage en saphir 1
Goupilles de levage en saphir 4