Substrat SIC 12 pouces en carbure de silicium de première qualité, diamètre 300 mm, grande taille, 4H-N. Convient à la dissipation thermique des dispositifs haute puissance.

Description courte :

Un substrat en carbure de silicium (SiC) de 300 mm (12 pouces) est un substrat semi-conducteur de grande taille et hautes performances, fabriqué à partir d'un monocristal de carbure de silicium. Le carbure de silicium (SiC) est un matériau semi-conducteur à large bande interdite présentant d'excellentes propriétés électriques, thermiques et mécaniques. Il est largement utilisé dans la fabrication de dispositifs électroniques fonctionnant dans des environnements à haute puissance, haute fréquence et haute température. Le substrat de 300 mm (12 pouces) représente la spécification la plus avancée actuellement disponible pour la technologie du carbure de silicium ; il permet d'améliorer considérablement l'efficacité de la production et de réduire les coûts.


Caractéristiques

Caractéristiques du produit

1. Conductivité thermique élevée : la conductivité thermique du carbure de silicium est plus de 3 fois supérieure à celle du silicium, ce qui convient à la dissipation de la chaleur des dispositifs de forte puissance.

2. Rigidité diélectrique élevée : La rigidité diélectrique est 10 fois supérieure à celle du silicium, ce qui la rend adaptée aux applications à haute pression.

3. Large bande interdite : La bande interdite est de 3,26 eV (4H-SiC), adaptée aux applications à haute température et à haute fréquence.

4. Dureté élevée : la dureté Mohs est de 9,2, juste derrière le diamant, excellente résistance à l'usure et résistance mécanique.

5. Stabilité chimique : forte résistance à la corrosion, performances stables à haute température et en environnement difficile.

6. Grande taille : substrat de 12 pouces (300 mm), améliore l'efficacité de la production, réduit le coût unitaire.

7. Faible densité de défauts : technologie de croissance monocristalline de haute qualité pour garantir une faible densité de défauts et une grande homogénéité.

Principales applications du produit

1. Électronique de puissance :

MOSFET : utilisés dans les véhicules électriques, les entraînements de moteurs industriels et les convertisseurs de puissance.

Diodes : telles que les diodes Schottky (SBD), utilisées pour le redressement efficace et les alimentations à découpage.

2. Appareils RF :

Amplificateur de puissance RF : utilisé dans les stations de base de communication 5G et les communications par satellite.

Dispositifs à micro-ondes : Adaptés aux systèmes radar et de communication sans fil.

3. Véhicules à énergies nouvelles :

Systèmes de propulsion électrique : contrôleurs de moteurs et onduleurs pour véhicules électriques.

Borne de recharge : Module d'alimentation pour équipements de recharge rapide.

4. Applications industrielles :

Onduleur haute tension : pour la commande de moteurs industriels et la gestion de l’énergie.

Réseau intelligent : pour la transmission HVDC et les transformateurs d’électronique de puissance.

5. Aérospatiale :

Électronique haute température : adaptée aux environnements à haute température des équipements aérospatiaux.

6. Domaine de recherche :

Recherche sur les semi-conducteurs à large bande interdite : pour le développement de nouveaux matériaux et dispositifs semi-conducteurs.

Le substrat en carbure de silicium de 12 pouces est un substrat semi-conducteur haute performance doté d'excellentes propriétés telles qu'une conductivité thermique élevée, une rigidité diélectrique élevée et une large bande interdite. Il est largement utilisé dans l'électronique de puissance, les dispositifs radiofréquences, les véhicules à énergies nouvelles, le contrôle industriel et l'aérospatiale, et constitue un matériau clé pour le développement de la prochaine génération de dispositifs électroniques haute puissance et à haut rendement.

Bien que les substrats en carbure de silicium aient actuellement peu d'applications directes dans l'électronique grand public, comme les lunettes de réalité augmentée, leur potentiel en matière de gestion efficace de l'énergie et de miniaturisation électronique pourrait permettre de développer des solutions d'alimentation légères et performantes pour les futurs dispositifs de réalité augmentée et de réalité virtuelle. À l'heure actuelle, le développement des substrats en carbure de silicium se concentre principalement dans des secteurs industriels tels que les véhicules à énergies nouvelles, les infrastructures de communication et l'automatisation industrielle, contribuant ainsi à orienter l'industrie des semi-conducteurs vers une évolution plus efficace et plus fiable.

XKH s'engage à fournir des substrats SIC 12" de haute qualité avec un support technique et des services complets, notamment :

1. Production personnalisée : Selon les besoins du client, nous fournissons des substrats présentant différentes résistivités, orientations cristallines et traitements de surface.

2. Optimisation des processus : Fournir aux clients un soutien technique en matière de croissance épitaxiale, de fabrication de dispositifs et d'autres processus afin d'améliorer les performances des produits.

3. Tests et certification : Fournir une détection des défauts et une certification de qualité strictes pour garantir que le substrat répond aux normes de l'industrie.

4. Coopération en matière de R&D : Développer conjointement de nouveaux dispositifs en carbure de silicium avec les clients afin de promouvoir l'innovation technologique.

Graphique de données

Spécifications du substrat en carbure de silicium (SiC) de 1/2 pouce
Grade Production ZeroMPD
Niveau (Niveau Z)
Production standard
Niveau (Niveau P)
Niveau factice
(Note D)
Diamètre 300 mm ~ 305 mm
Épaisseur 4H-N 750 μm ± 15 μm 750 μm ± 25 μm
4H-SI 750 μm ± 15 μm 750 μm ± 25 μm
Orientation de la plaquette Hors axe : 4,0° vers <1120> ±0,5° pour 4H-N, sur axe : <0001> ±0,5° pour 4H-SI
Densité des micropipes 4H-N ≤0,4 cm-2 ≤4cm-2 ≤25cm-2
4H-SI ≤5cm-2 ≤10 cm-2 ≤25cm-2
Résistivité 4H-N 0,015 à 0,024 Ω·cm 0,015 à 0,028 Ω·cm
4H-SI ≥1E10 Ω·cm ≥1E5 Ω·cm
Orientation à plat primaire {10-10} ±5,0°
Longueur à plat primaire 4H-N N / A
4H-SI Entailler
Exclusion des bords 3 mm
LTV/TTV/Arc/Déformation ≤5 μm/≤15 μm/≤35 μm/≤55 μm ≤5 μm/≤15 μm/≤35 □ μm/≤55 □ μm
Rugosité Ra polonais ≤ 1 nm
CMP Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,5 nm
Fissures sur les bords causées par une lumière de haute intensité
Plaques hexagonales éclairées par une lumière de haute intensité
Zones polytypes éclairées par une lumière de haute intensité
Inclusions de carbone visuelles
Rayures sur la surface du silicone causées par une lumière de haute intensité
Aucun
Surface cumulée ≤0,05%
Aucun
Surface cumulée ≤0,05%
Aucun
Longueur cumulée ≤ 20 mm, longueur unitaire ≤ 2 mm
Surface cumulée ≤0,1%
Surface cumulée ≤ 3 %
Surface cumulée ≤3%
Longueur cumulée ≤ 1 × diamètre de la plaquette
Éclats de bord par lumière de haute intensité Aucune dimension ≥ 0,2 mm de largeur et de profondeur n'est autorisée. 7 autorisés, ≤1 mm chacun
(TSD) Déboîtement de la vis de filetage ≤500 cm-2 N / A
(BPD) Luxation du plan de base ≤1000 cm-2 N / A
Contamination de la surface du silicium par la lumière de haute intensité Aucun
Conditionnement Cassette multi-plaquettes ou conteneur à plaquette unique
Remarques :
1 Les limites de défauts s'appliquent à toute la surface de la plaquette, à l'exception de la zone d'exclusion du bord.
2Les rayures doivent être vérifiées uniquement sur la face en silicium.
3 Les données sur les dislocations proviennent uniquement de plaquettes gravées au KOH.

XKH continuera d'investir dans la recherche et le développement afin de favoriser une avancée majeure dans la fabrication de substrats en carbure de silicium de 12 pouces, caractérisés par une grande taille, un faible taux de défauts et une grande homogénéité. Parallèlement, XKH explore leurs applications dans des domaines émergents tels que l'électronique grand public (notamment les modules d'alimentation pour les dispositifs de réalité augmentée et de réalité virtuelle) et l'informatique quantique. En réduisant les coûts et en augmentant les capacités de production, XKH contribuera à la prospérité de l'industrie des semi-conducteurs.

Diagramme détaillé

Plaquette de silicium de 12 pouces 4
Plaquette de silicium de 12 pouces 5
Plaquette de silicium de 12 pouces 6

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