Substrat de saphir à motifs de 2 pouces de 4 pouces 6 pouces (PSS) sur lequel le matériau GaN est cultivé peut utiliser pour l'éclairage LED

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Brève description:

Le substrat de saphir à motifs (PSS) est un masque pour la gravure à sec sur le substrat saphir, le masque est gravé d'une technologie de lithographie standard, puis le saphir est gravé par ICP de gravure, et le masque est supprimé, et enfin le matériel de gan, il y a du horrizal. Ce processus implique plusieurs étapes telles que le revêtement de photorésistaire, l'exposition des étapes, le développement du modèle d'exposition, la gravure et le nettoyage à sec ICP.

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Détail du produit

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Caractéristiques principales

1. Caractéristiques structurelles:
La surface du PSS a un cône ordonné ou un motif conique triangulaire dont la forme, la taille et la distribution peuvent être contrôlées en ajustant les paramètres du processus de gravure.
Ces structures graphiques aident à modifier le chemin de propagation de la lumière et à réduire la réflexion totale de la lumière, améliorant ainsi l'efficacité de l'extraction de la lumière.

2. Caractéristiques du matériau:
Le PSS utilise un saphir de haute qualité comme matériau de substrat, qui a les caractéristiques d'une dureté élevée, d'une conductivité thermique élevée, d'une bonne stabilité chimique et d'une transparence optique.
Ces caractéristiques permettent aux PS de résister aux environnements durs tels que des températures et des pressions élevées tout en conservant d'excellentes performances optiques.

3. Performance optique:
En modifiant la diffusion multiple à l'interface entre le substrat Gan et Sapphire, PSS fait que les photons qui sont complètement reflétés à l'intérieur de la couche Gan ont une chance d'échapper au substrat de saphir.
Cette caractéristique améliore considérablement l'efficacité d'extraction de la lumière de la LED et améliore l'intensité lumineuse de la LED.

4. Caractéristiques du processus:
Le processus de fabrication du PSS est relativement complexe, impliquant plusieurs étapes telles que la lithographie et la gravure, et nécessite des équipements de haute précision et un contrôle des processus.
Cependant, avec l'avancement continu de la technologie et la réduction des coûts, le processus de fabrication du PSS est progressivement optimisé et amélioré.

Avantage de base

1. Improve Efficacité d'extraction de la lumière: le PSS améliore considérablement l'efficacité d'extraction de la lumière de la LED en modifiant le chemin de propagation de la lumière et en réduisant la réflexion totale.

2. Life de LED par la présceinte: le PSS peut réduire la densité de dislocation des matériaux épitaxiaux GaN, réduisant ainsi la recombinaison non radiative et le courant de fuite inverse dans la région active, prolongeant la durée de vie de la LED.

3. Improve la luminosité LED: En raison de l'amélioration de l'efficacité d'extraction de la lumière et de l'extension de la durée de vie LED, l'intensité lumineuse LED sur le PSS est considérablement améliorée.

4. Réduire les coûts de production: bien que le processus de fabrication des PS soit relativement complexe, il peut considérablement améliorer l'efficacité lumineuse et la vie de la LED, réduisant ainsi les coûts de production dans une certaine mesure et améliorant la compétitivité du produit.

Zones d'application principales

1. Éclairage LED: PSS en tant que matériau de substrat pour les puces LED, peut améliorer considérablement l'efficacité lumineuse et la durée de vie de la LED.
Dans le domaine de l'éclairage LED, le PSS est largement utilisé dans divers produits d'éclairage, tels que les réverbères, les lampes de table, les feux de voiture, etc.

2. Dispositifs sémicondants: En plus de l'éclairage LED, les PS peuvent également être utilisés pour fabriquer d'autres dispositifs de semi-conducteurs, tels que les détecteurs de lumière, les lasers, etc.

3. Intégration optoélectronique: Les propriétés optiques et la stabilité des PS en font l'un des matériaux idéaux dans le domaine de l'intégration optoélectronique. Dans l'intégration optoélectronique, les PS peuvent être utilisés pour faire des guides d'ondes optiques, des commutateurs optiques et d'autres composants pour réaliser la transmission et le traitement des signaux optiques.

Paramètres techniques

Article	Substrat saphir à motifs (2 ~ 6 pouces)
Diamètre	50,8 ± 0,1 mm	100,0 ± 0,2 mm	150,0 ± 0,3 mm
Épaisseur	430 ± 25μm	650 ± 25μm	1000 ± 25μm
Orientation de surface	Plan C (0001) en angle vers l'angle M (10-10) 0,2 ± 0,1 °
	Plan C (0001) en angle vers l'angle A (11-20) 0 ± 0,1 °
Orientation plate primaire	Plan A (11-20) ± 1,0 °
Longueur plate primaire	16,0 ± 1,0 mm	30,0 ± 1,0 mm	47,5 ± 2,0 mm
R-plan	9-o'clock
Finition de surface avant	À motifs
Finition de surface arrière	SSP: fin fin, RA = 0,8-1,2UM; DSP: Poli, RA <0,3 nm
Marque laser	Arrière
TTV	≤8μm	≤ 10 μm	≤20 μm
ARC	≤ 10 μm	≤15μm	≤25 μm
CHAÎNE	≤12μm	≤20 μm	≤ 30 μm
Exclusion de bord	≤2 mm
Spécification du modèle	Structure de forme	Dôme, cône, pyramide
	Hauteur du motif	1,6 ~ 1,8 μm
	Diamètre du motif	2,75 ~ 2,85 μm
	Espace motif	0,1 ~ 0,3 μm

XKH se concentre sur le développement, la production et les ventes de substrats en saphir à motifs (PSS) et s'engage à fournir des produits PSS de haute qualité et haute performance aux clients du monde entier. XKH a une technologie de fabrication avancée et une équipe technique professionnelle, qui peut personnaliser les produits PSS avec différentes spécifications et différentes structures de motifs en fonction des besoins des clients. Dans le même temps, XKH fait attention à la qualité des produits et à la qualité des services et s'engage à fournir aux clients une gamme complète de support technique et de solutions. Dans le domaine du PSS, XKH a accumulé une riche expérience et des avantages, et a hâte de travailler avec des partenaires mondiaux pour promouvoir conjointement le développement innovant de l'éclairage LED, des dispositifs semi-conducteurs et d'autres industries.