Substrat de récupération factice de type P/N (100) de plaquette de silicium de 8 pouces 1-100 Ω

Brève description :

Large inventaire de plaquettes polies double face, de 50 à 400 mm de diamètre. Si votre spécification n'est pas disponible dans notre inventaire, nous avons établi des relations durables avec de nombreux fournisseurs capables de fabriquer des plaquettes sur mesure pour répondre à toutes vos spécifications. Les plaquettes polies double face peuvent être utilisées pour le silicium, le verre et d'autres matériaux couramment utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.


Détails du produit

Étiquettes de produit

Présentation de la boîte à gaufrettes

La plaquette de silicium de 8 pouces est un substrat de silicium couramment utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Elle est couramment utilisée pour la fabrication de divers types de circuits intégrés, notamment des microprocesseurs, des puces mémoire, des capteurs et d'autres dispositifs électroniques. Elle est couramment utilisée pour la fabrication de puces de taille relativement importante. Elle présente notamment l'avantage d'une surface plus importante et de la possibilité de fabriquer davantage de puces sur une seule plaquette, ce qui améliore l'efficacité de la production. Elle présente également de bonnes propriétés mécaniques et chimiques, ce qui la rend idéale pour la production de circuits intégrés à grande échelle.

Caractéristiques du produit

Plaquette de silicium polie de type P/N 8" (25 pièces)

Orientation : 200

Résistivité : 0,1 - 40 ohm•cm (peut varier d'un lot à l'autre)

Épaisseur : 725+/-20 um

Prime/Moniteur/Test de qualité

PROPRIÉTÉS DES MATÉRIAUX

Paramètre Caractéristiques
Type/Dopant P, Bore N, Phosphore N, Antimoine N, Arsenic
Orientations <100>, <111> orientations des tranches selon les spécifications du client
Teneur en oxygène 1019ppmA Tolérances personnalisées selon les spécifications du client
Teneur en carbone < 0,6 ppmA

PROPRIÉTÉS MÉCANIQUES

Paramètre Prime Moniteur/Test A Test
Diamètre 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,5 mm
Épaisseur 725±20µm (standard) 725±25µm (standard) 450±25µm

625±25µm

1000±25µm

1300±25µm

1500±25 µm

725±50µm (standard)
TTV < 5 µm < 10 µm < 15 µm
Arc < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Envelopper < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Arrondi des bords SEMI-STD
Marquage Primaire semi-plat uniquement, semi-plats standard Jeida Flat, Notch
Paramètre Prime Moniteur/Test A Test
Critères de la face avant
État de surface Poli chimico-mécanique Poli chimico-mécanique Poli chimico-mécanique
Rugosité de surface < 2 A° < 2 A° < 2 A°
Contamination

Particules à > 0,3 µm

= 20 = 20 = 30
Brume, fosses

écorce d'orange

Aucun Aucun Aucun
Scie, marques

Stries

Aucun Aucun Aucun
Critères de la face arrière
Fissures, pattes d'oie, traces de scie, taches Aucun Aucun Aucun
État de surface Gravure caustique

Diagramme détaillé

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