Tige et goupille de levage en saphir industriel, goupille en saphir Al2O3 haute dureté pour la manipulation de plaquettes, les systèmes radar et le traitement des semi-conducteurs – Diamètre de 1,6 mm à 2 mm
Abstrait
Les tiges et axes de levage industriels en saphir sont conçus avec précision et durabilité pour des applications exigeantes telles que la manipulation de plaquettes, les systèmes radar et le traitement des semi-conducteurs. Fabriqués en monocristal d'Al₂O₃ (saphir), ces axes offrent une dureté et une résistance thermique exceptionnelles. Disponibles dans des diamètres allant de 1,6 mm à 2 mm, ces tiges et axes de levage sont personnalisables pour répondre aux exigences industrielles spécifiques. Ils offrent une excellente résistance aux rayures et une faible usure, ce qui en fait des composants essentiels pour les systèmes hautes performances.
Caractéristiques
●Haute dureté et durabilité :Avec une dureté Mohs de 9, ces broches et tiges sont résistantes aux rayures, garantissant des performances durables dans les applications à forte usure.
●Tailles personnalisables :Disponible dans des diamètres de 1,6 mm à 2 mm, avec la possibilité de dimensions personnalisées pour répondre aux besoins d'application spécifiques.
●Résistance thermique :Le point de fusion élevé du saphir (2040°C) garantit que ces broches peuvent résister aux environnements à haute température sans se dégrader.
●Excellentes propriétés optiques :La clarté optique inhérente du saphir rend ces broches de levage adaptées à une utilisation dans les systèmes optiques et les appareils de précision.
●Faible frottement et usure :La surface lisse du saphir minimise l’usure de la goupille de levage et de l’équipement, réduisant ainsi les coûts de maintenance.
Applications
●Manipulation des plaquettes :Utilisé dans le traitement des semi-conducteurs pour la manipulation délicate des plaquettes.
●Systèmes radar :Broches hautes performances utilisées dans les systèmes radar pour leur durabilité et leur précision.
●Traitement des semi-conducteurs :Idéal pour la manipulation de plaquettes et d'autres composants dans les processus de fabrication de semi-conducteurs de haute technologie.
●Systèmes industriels :Convient à une variété d'applications industrielles nécessitant une durabilité et une précision élevées.
Paramètres du produit
| Fonctionnalité | Spécification |
| Matériel | Monocristal Al2O3 (saphir) |
| Dureté | Mohs 9 |
| Plage de diamètres | 1,6 mm à 2 mm |
| Conductivité thermique | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Point de fusion | 2040°C |
| Densité | 3,97 g/cc |
| Applications | Manipulation de plaquettes, systèmes radar, traitement des semi-conducteurs |
| Personnalisation | Disponible dans des tailles personnalisées |
Questions et réponses (Foire aux questions)
Q1 : Pourquoi le saphir est-il un bon matériau pour les broches de levage utilisées dans la manipulation des plaquettes ?
A1 : Le saphir est trèsrésistant aux rayureset a unpoint de fusion élevé, ce qui en fait un excellent matériau pour les opérations délicates telles quemanipulation des plaquettes, où la précision et la durabilité sont essentielles.
Q2 : Quel est l’avantage de personnaliser la taille des broches de levage en saphir ?
A2 : Les tailles personnalisées permettent d'adapter ces goupilles de levage pour s'adapter à des applications spécifiques, garantissant des performances optimales dans une variété de systèmes, y compristraitement des semi-conducteursetsystèmes radar.
Q3 : Les broches de levage en saphir peuvent-elles être utilisées dans des applications à haute température ?
A3 : Oui,saphira unpoint de fusion élevéde2040°C, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des environnements à haute température.
Diagramme détaillé
