Substrat SiC Dia200mm 4H-N et HPSI Carbure de silicium

Brève description :

Le substrat en carbure de silicium (plaquette SiC) est un matériau semi-conducteur à large bande interdite doté d'excellentes propriétés physiques et chimiques, particulièrement remarquables dans les environnements à haute température, haute fréquence, forte puissance et rayonnement élevé. La structure cristalline 4H-V est l'une des structures cristallines du carbure de silicium. De plus, les substrats SiC présentent une bonne conductivité thermique, ce qui leur permet de dissiper efficacement la chaleur générée par les dispositifs en fonctionnement, améliorant ainsi leur fiabilité et leur durée de vie.


Caractéristiques

Le 4H-N et HPSI est un polytype de carbure de silicium (SiC), dont la structure cristalline est constituée d'unités hexagonales composées de quatre atomes de carbone et de quatre atomes de silicium. Cette structure confère au matériau d'excellentes caractéristiques de mobilité électronique et de tension de claquage. Parmi tous les polytypes de SiC, le 4H-N et HPSI est largement utilisé en électronique de puissance en raison de sa mobilité équilibrée des électrons et des trous et de sa conductivité thermique supérieure.

L'émergence des substrats SiC de 8 pouces représente une avancée majeure pour l'industrie des semi-conducteurs de puissance. Les matériaux semi-conducteurs traditionnels à base de silicium voient leurs performances baisser significativement dans des conditions extrêmes, telles que des températures et des tensions élevées, tandis que les substrats SiC conservent leurs excellentes performances. Comparés aux substrats plus petits, les substrats SiC de 8 pouces offrent une plus grande surface de traitement monobloc, ce qui se traduit par une meilleure efficacité de production et des coûts réduits, essentiels à la commercialisation de la technologie SiC.

La technologie de croissance des substrats en carbure de silicium (SiC) de 8 pouces exige une précision et une pureté extrêmement élevées. La qualité du substrat a un impact direct sur les performances des dispositifs ultérieurs. Les fabricants doivent donc recourir à des technologies avancées pour garantir la perfection cristalline et la faible densité de défauts des substrats. Cela implique généralement des procédés complexes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et des techniques de croissance et de découpe cristallines précises. Les substrats SiC 4H-N et HPSI sont particulièrement utilisés dans le domaine de l'électronique de puissance, notamment dans les convertisseurs de puissance à haut rendement, les onduleurs de traction pour véhicules électriques et les systèmes d'énergie renouvelable.

Nous proposons des substrats SiC 4H-N de 8 pouces, ainsi que différentes qualités de plaquettes de substrat. Nous pouvons également personnaliser vos produits selon vos besoins. N'hésitez pas à nous contacter !

Diagramme détaillé

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