Substrat SiC Dia200mm 4H-N et HPSI Carbure de silicium

Description courte :

Le substrat en carbure de silicium (plaquette de SiC) est un matériau semi-conducteur à large bande interdite présentant d'excellentes propriétés physico-chimiques, particulièrement performant dans les environnements à haute température, haute fréquence, haute puissance et forte radiation. La structure cristalline 4H-V du carbure de silicium en fait partie. De plus, les substrats en SiC possèdent une bonne conductivité thermique, ce qui leur permet de dissiper efficacement la chaleur générée par les dispositifs en fonctionnement, améliorant ainsi leur fiabilité et leur durée de vie.


Caractéristiques

Le 4H-N et le HPSI sont des polytypes de carbure de silicium (SiC) dont la structure cristalline est composée d'unités hexagonales formées de quatre atomes de carbone et quatre atomes de silicium. Cette structure confère au matériau d'excellentes caractéristiques de mobilité électronique et de tension de claquage. Parmi tous les polytypes de SiC, le 4H-N et le HPSI sont largement utilisés dans le domaine de l'électronique de puissance en raison de leur mobilité équilibrée des électrons et des trous et de leur conductivité thermique élevée.

L'apparition des substrats SiC de 8 pouces représente une avancée majeure pour l'industrie des semi-conducteurs de puissance. Les matériaux semi-conducteurs traditionnels à base de silicium subissent une chute de performance significative dans des conditions extrêmes telles que les hautes températures et les hautes tensions, tandis que les substrats SiC conservent d'excellentes performances. Comparés aux substrats plus petits, les substrats SiC de 8 pouces offrent une surface de traitement unitaire plus importante, ce qui se traduit par une efficacité de production accrue et des coûts réduits, des facteurs essentiels pour accélérer la commercialisation de la technologie SiC.

La technologie de croissance des substrats en carbure de silicium (SiC) de 8 pouces exige une précision et une pureté extrêmement élevées. La qualité du substrat influe directement sur les performances des dispositifs qui en sont issus ; les fabricants doivent donc recourir à des technologies de pointe pour garantir la perfection cristalline et la faible densité de défauts des substrats. Ceci implique généralement des procédés complexes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ainsi que des techniques précises de croissance et de découpe des cristaux. Les substrats SiC 4H-N et HPSI sont particulièrement répandus dans le domaine de l'électronique de puissance, notamment pour les convertisseurs de puissance à haut rendement, les onduleurs de traction pour véhicules électriques et les systèmes d'énergies renouvelables.

Nous proposons des substrats SiC 4H-N de 8 pouces, ainsi que des plaquettes de substrat de différentes qualités. Nous pouvons également réaliser des solutions sur mesure selon vos besoins. N'hésitez pas à nous contacter !

Diagramme détaillé

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