Aspirateur pour plateaux en céramique de carbure de silicium. Fourniture de tubes en céramique de carbure de silicium. Frittage à haute température. Procédé sur mesure.

Description courte :

Les plateaux et tubes en céramique de carbure de silicium sont des matériaux haute performance indispensables à la fabrication des semi-conducteurs. Les plateaux sont principalement utilisés pour la fixation et le support des plaquettes lors du traitement, garantissant ainsi la stabilité des processus de haute précision. Les tubes en céramique de carbure de silicium sont quant à eux largement utilisés dans les fours à haute température, les fours de diffusion et d'autres applications, afin de résister aux environnements extrêmes et d'assurer une gestion thermique efficace. Ces deux matériaux sont composés de carbure de silicium, devenu un composant clé de l'industrie des semi-conducteurs grâce à ses excellentes propriétés physico-chimiques.


Caractéristiques

Caractéristiques principales :

1. Plateau en céramique de carbure de silicium
- Dureté et résistance à l'usure élevées : sa dureté est proche de celle du diamant et il peut résister à l'usure mécanique lors du traitement des plaquettes pendant une longue période.
- Conductivité thermique élevée et faible coefficient de dilatation thermique : dissipation rapide de la chaleur et stabilité dimensionnelle, évitant les déformations dues aux contraintes thermiques.
- Planéité et finition de surface élevées : La planéité de la surface atteint le niveau du micron, assurant un contact total entre la plaquette et le disque, réduisant ainsi la contamination et les dommages.
Stabilité chimique : Forte résistance à la corrosion, adaptée aux procédés de nettoyage humide et de gravure dans la fabrication des semi-conducteurs.
2. Tube en céramique de carbure de silicium
- Résistance aux hautes températures : Il peut fonctionner dans un environnement à haute température supérieur à 1600 °C pendant une longue période, ce qui le rend adapté aux processus à haute température des semi-conducteurs.
Excellente résistance à la corrosion : résistant aux acides, aux alcalis et à divers solvants chimiques, convient aux environnements de production difficiles.
- Dureté et résistance à l'usure élevées : résiste à l'érosion particulaire et à l'usure mécanique, prolonge la durée de vie.
- Conductivité thermique élevée et faible coefficient de dilatation thermique : conduction rapide de la chaleur et stabilité dimensionnelle, réduisant la déformation ou la fissuration causées par les contraintes thermiques.

Paramètres du produit :

Paramètre du plateau en céramique de carbure de silicium :

(Propriété du matériau) (Unité) (ssic)
(teneur en SiC)   (Poids)% >99
(Taille moyenne des grains)   micron 4-10
(Densité)   kg/dm3 >3,14
(Porosité apparente)   Vo1% <0,5
(Dureté Vickers) HV 0,5 GPa 28
*()
Résistance à la flexion* (trois points)
20ºC MPa 450
(Résistance à la compression) 20ºC MPa 3900
(Module d'élasticité) 20ºC GPa 420
(Résistance à la rupture)   MPa/m'% 3.5
(Conductivité thermique) 20°C W/(m*K) 160
(Résistivité) 20°C Ohm.cm 106-108

(Coefficient de dilatation thermique)
a(RT**...80ºC) K-1*10-6 4.3

(Température maximale de fonctionnement)
  °C 1700

 

Paramètre du tube en céramique de carbure de silicium :

Articles Indice
α-SIC 99 % min
Porosité apparente 16 % max
Masse volumique apparente 2,7 g/cm3 min
Résistance à la flexion à haute température 100 MPa min
Coefficient de dilatation thermique K-1 4,7 x 10⁻⁶
Coefficient de conductivité thermique (1400 °C) 24 W/mk
Température de fonctionnement maximale 1650 °C

 

Principales applications :

1. Plaque en céramique de carbure de silicium
- Découpe et polissage des plaquettes : sert de plateforme de support pour assurer une précision et une stabilité élevées pendant la découpe et le polissage.
- Procédé de lithographie : La plaquette est fixée dans la machine de lithographie afin de garantir un positionnement de haute précision pendant l’exposition.
- Polissage chimico-mécanique (CMP) : sert de plateforme de support pour les tampons de polissage, assurant une distribution uniforme de la pression et de la chaleur.
2. Tube en céramique de carbure de silicium
- Tube de four haute température : utilisé dans les équipements haute température tels que les fours de diffusion et les fours d'oxydation pour transporter les plaquettes destinées au traitement thermique à haute température.
- Procédé CVD/PVD : Utilisé comme tube de support dans la chambre de réaction, il résiste aux hautes températures et aux gaz corrosifs.
- Accessoires pour équipements semi-conducteurs : pour échangeurs de chaleur, gazoducs, etc., afin d'améliorer l'efficacité de la gestion thermique des équipements.
XKH propose une gamme complète de services sur mesure pour les plateaux, ventouses et tubes en céramique de carbure de silicium. Les plateaux et ventouses en céramique de carbure de silicium sont personnalisables selon les exigences du client en termes de dimensions, de formes et de rugosité de surface. Des traitements de revêtement spéciaux sont également disponibles pour améliorer la résistance à l'usure et à la corrosion. Concernant les tubes en céramique de carbure de silicium, XKH propose une grande variété de diamètres intérieur et extérieur, de longueurs et de structures complexes (tubes profilés ou poreux, par exemple). Des traitements de surface tels que le polissage et l'application d'un revêtement anti-oxydation sont également proposés. XKH garantit à ses clients une utilisation optimale des produits en céramique de carbure de silicium pour répondre aux exigences élevées des secteurs de pointe comme les semi-conducteurs, les LED et le photovoltaïque.

Diagramme détaillé

Plateau et tube en céramique SIC 6
Plateau et tube en céramique SIC 7
Plateau et tube en céramique SIC 8
Plateau et tube en céramique SIC 9

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