Ventouse de plateau en céramique de carbure de silicium Fourniture de tubes en céramique de carbure de silicium Frittage à haute température Traitement personnalisé

Brève description :

Les plateaux et tubes en céramique de carbure de silicium sont des matériaux hautes performances indispensables à la fabrication de semi-conducteurs. Les plateaux et tubes en céramique de carbure de silicium sont principalement utilisés pour l'usinage de plaquettes fixes et de plaquettes porteuses, afin de garantir la stabilité des processus de haute précision. Les tubes en céramique de carbure de silicium sont largement utilisés dans les tubes de fours à haute température, les tubes de fours à diffusion et d'autres applications pour résister aux environnements extrêmes et assurer une gestion thermique efficace. Tous deux sont basés sur le carbure de silicium comme matériau de base, devenu un composant clé de l'industrie des semi-conducteurs grâce à ses excellentes propriétés physiques et chimiques.


Détails du produit

Étiquettes de produit

Caractéristiques principales :

1. Plateau en céramique en carbure de silicium
- Dureté et résistance à l'usure élevées : la dureté est proche de celle du diamant et peut résister à l'usure mécanique lors du traitement des plaquettes pendant une longue période.
- Conductivité thermique élevée et faible coefficient de dilatation thermique : dissipation thermique rapide et stabilité dimensionnelle, évitant la déformation causée par les contraintes thermiques.
- Planéité et finition de surface élevées : la planéité de la surface atteint le niveau du micron, assurant un contact complet entre la plaquette et le disque, réduisant ainsi la contamination et les dommages.
Stabilité chimique : Forte résistance à la corrosion, adaptée aux processus de nettoyage humide et de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs.
2. Tube en céramique en carbure de silicium
- Résistance aux hautes températures : il peut fonctionner dans un environnement à haute température au-dessus de 1600°C pendant une longue période, adapté au processus à haute température des semi-conducteurs.
Excellente résistance à la corrosion : résistant aux acides, aux alcalis et à une variété de solvants chimiques, adapté aux environnements de processus difficiles.
- Dureté élevée et résistance à l'usure : résiste à l'érosion des particules et à l'usure mécanique, prolonge la durée de vie.
- Conductivité thermique élevée et faible coefficient de dilatation thermique : conduction rapide de la chaleur et stabilité dimensionnelle, réduisant les déformations ou les fissures causées par les contraintes thermiques.

Paramètre du produit :

Paramètres du plateau en céramique en carbure de silicium :

(Propriété matérielle) (Unité) (ssic)
(teneur en SiC)   (Poids)% >99
(Granulométrie moyenne)   micron 4-10
(Densité)   kg/dm3 >3.14
(Porosité apparente)   Vo1% <0,5
(dureté Vickers) HV 0,5 moyenne générale 28
*()
Résistance à la flexion* (trois points)
20ºC MPa 450
(Résistance à la compression) 20ºC MPa 3900
(Module d'élasticité) 20ºC moyenne générale 420
(Ténacité à la rupture)   MPa/m'% 3,5
(Conductivité thermique) 20°ºC W/(m*K) 160
(Résistivité) 20°ºC Ohm.cm 106-108

(Coefficient de dilatation thermique)
a(RT**...80ºC) K-1*10-6 4.3

(Température maximale de fonctionnement)
  oºC 1700

 

Paramètres du tube en céramique en carbure de silicium :

Articles Indice
α-SIC 99% minimum
Porosité apparente 16% maximum
Densité apparente 2,7 g/cm3 min
Résistance à la flexion à haute température 100 Mpa min
Coefficient de dilatation thermique K-1 4,7x10-6
Coefficient de conductivité thermique (1400ºC) 24 W/m³
Température de fonctionnement maximale 1650ºC

 

Principales applications :

1. Plaque en céramique en carbure de silicium
- Découpe et polissage de plaquettes : sert de plate-forme de support pour assurer une précision et une stabilité élevées lors de la découpe et du polissage.
- Procédé de lithographie : La plaquette est fixée dans la machine de lithographie pour assurer un positionnement de haute précision lors de l'exposition.
- Polissage chimico-mécanique (CMP) : agit comme une plate-forme de support pour les tampons de polissage, assurant une pression uniforme et une répartition de la chaleur.
2. Tube en céramique en carbure de silicium
- Tube de four à haute température : utilisé pour les équipements à haute température tels que les fours de diffusion et les fours d'oxydation pour transporter des plaquettes pour le traitement de processus à haute température.
- Procédé CVD/PVD : En tant que tube de support dans la chambre de réaction, résistant aux hautes températures et aux gaz corrosifs.
- Accessoires d'équipements semi-conducteurs : pour échangeurs de chaleur, gazoducs, etc., pour améliorer l'efficacité de la gestion thermique des équipements.
XKH propose une gamme complète de services sur mesure pour les plateaux, ventouses et tubes en carbure de silicium. XKH peut personnaliser ses plateaux et ventouses en carbure de silicium selon les besoins du client, en fonction de la taille, de la forme et de la rugosité de surface. Des traitements de revêtement spéciaux améliorent la résistance à l'usure et à la corrosion. Pour les tubes en carbure de silicium, XKH peut personnaliser une variété de diamètres intérieurs, extérieurs, longueurs et structures complexes (tubes profilés ou poreux), et propose des traitements de polissage, de revêtement anti-oxydation et autres. XKH garantit à ses clients de tirer pleinement parti des performances des produits en carbure de silicium pour répondre aux exigences des secteurs de fabrication haut de gamme tels que les semi-conducteurs, les LED et le photovoltaïque.

Diagramme détaillé

Plateau et tube en céramique SIC 6
Plateau et tube en céramique SIC 7
Plateau et tube en céramique SIC 8
Plateau et tube en céramique SIC 9

  • Précédent:
  • Suivant:

  • Écrivez votre message ici et envoyez-le nous