Substrat
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Plaquette de silicium plaquée or (Si Wafer) 10 nm 50 nm 100 nm 500 nm Au Excellente conductivité pour LED
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Plaquettes de silicium revêtues d'or 2 pouces 4 pouces 6 pouces Épaisseur de la couche d'or : 50 nm (± 5 nm) ou personnaliser Film de revêtement Au, pureté de 99,999 %
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Plaquette AlN sur NPSS : couche de nitrure d'aluminium haute performance sur substrat de saphir non poli pour applications haute température, haute puissance et RF
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AlN sur FSS 2 pouces 4 pouces NPSS/FSS Modèle AlN pour la zone des semi-conducteurs
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Nitrure de gallium (GaN) épitaxié sur plaquettes de saphir 4 pouces et 6 pouces pour MEMS
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Lentilles de précision en silicium monocristallin (Si) – Dimensions et revêtements personnalisés pour l'optoélectronique et l'imagerie infrarouge
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Lentilles personnalisées en silicium monocristallin (Si) haute pureté – Tailles et revêtements sur mesure pour applications infrarouges et THz (1,2-7 µm, 8-12 µm)
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Fenêtre optique en saphir à gradins personnalisée, monocristal Al2O3, haute pureté, diamètre 45 mm, épaisseur 10 mm, découpée et polie au laser
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Fenêtre à gradins en saphir haute performance, monocristal Al2O3, revêtement transparent, formes et tailles personnalisées pour applications optiques de précision
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Broche de levage en saphir haute performance, monocristal Al2O3 pur pour systèmes de transfert de plaquettes – Dimensions personnalisées, haute durabilité pour applications de précision
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Tige et goupille de levage en saphir industriel, goupille en saphir Al2O3 haute dureté pour la manipulation de plaquettes, les systèmes radar et le traitement des semi-conducteurs – Diamètre de 1,6 mm à 2 mm
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Broche de levage en saphir personnalisée, pièces optiques monocristallines Al2O3 haute dureté pour le transfert de plaquettes – Diamètres 1,6 mm, 1,8 mm, personnalisables pour applications industrielles