Plaque en céramique de carbure de silicium (SiC)

Description courte :

Les plaques en carbure de silicium (SiC) sont des composants céramiques de haute résistance et de haute pureté, conçus pour les environnements exigeant une stabilité thermique, une robustesse mécanique et une résistance chimique exceptionnelles. Grâce à leur excellente dureté, leur faible densité et leur conductivité thermique supérieure, les plaques en SiC sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les fours à haute température, la mécanique de précision et les environnements industriels corrosifs.


Caractéristiques

Présentation du produit

Les plaques en carbure de silicium (SiC) sont des composants céramiques de haute résistance et de haute pureté, conçus pour les environnements exigeant une stabilité thermique, une robustesse mécanique et une résistance chimique exceptionnelles. Grâce à leur excellente dureté, leur faible densité et leur conductivité thermique supérieure, les plaques en SiC sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les fours à haute température, la mécanique de précision et les environnements industriels corrosifs.

Ces plaques conservent leur intégrité structurelle même dans des conditions extrêmes, ce qui en fait une solution matérielle idéale pour les équipements haute performance de nouvelle génération.

Caractéristiques et propriétés principales

  • Dureté et résistance à l'usure élevées– Comparable au diamant, garantissant une longue durée de vie.

  • faible dilatation thermique– Minimise la déformation lors d'un chauffage ou d'un refroidissement rapide.

  • conductivité thermique élevée– Dissipation thermique efficace pour les systèmes de contrôle thermique.

  • Stabilité chimique exceptionnelle– Résistant aux acides, aux alcalis et aux environnements plasma.

  • Léger mais extrêmement résistant– Rapport résistance/poids élevé par rapport aux métaux.

  • Excellentes performances à haute température– Températures de fonctionnement jusqu'à 1600°C (selon la qualité).

  • Forte rigidité mécanique– Idéal pour un support précis et une stabilité structurelle.

Méthode de fabrication

Les plaques en céramique SiC sont généralement produites par l'un des procédés suivants :

• Carbure de silicium lié par réaction (RBSC / RBSiC)

  • Formée par infiltration de silicium fondu dans une préforme poreuse en SiC

  • Elle présente une résistance élevée, une bonne usinabilité et une stabilité dimensionnelle.

  • Convient aux grandes plaques nécessitant un contrôle précis de la planéité

• Carbure de silicium fritté (SSiC)

  • Produit par frittage sans pression de poudre de SiC de haute pureté

  • Offre une pureté, une résistance et une durabilité à la corrosion supérieures.

  • Idéal pour les applications dans les secteurs des semi-conducteurs et de la chimie nécessitant des conditions ultra-propres

• Carbure de silicium CVD (CVD-SiC)

  • procédé de dépôt chimique en phase vapeur

  • Pureté maximale, densité extrême et surface ultra-lisse

  • Courant dans les supports de plaquettes de semi-conducteurs, les suscepteurs et les pièces de chambres à vide

Applications

Les plaques en céramique SiC sont largement utilisées dans de nombreux secteurs industriels :

Semiconducteurs et électronique

  • Plaques porte-plaquettes

  • Suscepteurs

  • Composants du four à diffusion

  • Pièces de la chambre de gravure et de dépôt

Composants de four à haute température

  • Plaques de support

  • Meubles de four

  • Isolation et protection du système de chauffage

Équipement industriel

  • plaques d'usure mécanique

  • Patins de glissement

  • Composants de pompe et de vanne

  • plaques résistantes à la corrosion chimique

Aérospatiale et défense

  • plaques structurelles légères à haute résistance

  • Composants de blindage haute température

Plateau en céramique SiC10
Plateau en céramique SiC5

Spécifications et personnalisation

Les plaques en céramique SiC peuvent être fabriquées selon des plans personnalisés :

• Dimensions :
Épaisseur : 0,5–30 mm
Longueur latérale maximale : jusqu’à 600 mm (variable selon le procédé)

• Tolérance:
±0,01–0,05 mm selon la qualité d'usinage

• Finition de surface :

  • Terrain / tourné

  • Poli (Ra < 5 nm pour CVD-SiC)

  • Surface après frittage

• Qualités des matériaux :
RBSiC / SSiC / CVD-SiC

• Options de forme :
Plaques plates, plaques carrées, plaques rondes, plaques à fentes, plaques perforées, etc.

FAQ sur les verres à quartz

Q1 : Quelle est la différence entre les plaques RBSiC et SSiC ?

A:Le RBSiC offre une bonne résistance mécanique et un bon rapport coût-efficacité, tandis que le SSiC présente une pureté supérieure, une meilleure résistance à la corrosion et une résistance mécanique plus élevée. Le SSiC est privilégié pour les applications dans les semi-conducteurs et la chimie.

Q2 : Les plaques céramiques SiC peuvent-elles résister aux chocs thermiques ?

A:Oui. Le SiC possède une faible dilatation thermique et une conductivité thermique élevée, ce qui lui assure une excellente résistance aux chocs thermiques.

Q3 : Les plaques peuvent-elles être polies pour des applications de surface miroir ?

A:Oui. Le CVD-SiC et le SSiC de haute pureté permettent d'obtenir un polissage de qualité miroir pour les applications optiques ou semi-conductrices.

Q4 : Proposez-vous des services d'usinage sur mesure ?

A:Oui. Les plaques peuvent être fabriquées selon vos plans, y compris les trous, les fentes, les cavités et les formes spéciales.

À propos de nous

XKH est spécialisée dans le développement, la production et la vente de verres optiques spéciaux et de nouveaux matériaux cristallins de haute technologie. Nos produits sont destinés à l'électronique optique, à l'électronique grand public et au secteur militaire. Nous proposons des composants optiques en saphir, des films de protection pour objectifs de téléphones portables, de la céramique, du LT, du carbure de silicium (SiC), du quartz et des plaquettes de cristal semi-conducteur. Grâce à notre expertise et à nos équipements de pointe, nous excellons dans la transformation de produits non standard, avec pour ambition de devenir une entreprise leader dans le domaine des matériaux optoélectroniques.

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