Plaquette de substrat SiC 4H-semi HPSI 2 pouces factice de production de qualité recherche

Brève description :

La plaquette de substrat monocristallin en carbure de silicium de 2 pouces est un matériau haute performance aux propriétés physiques et chimiques exceptionnelles. Composée d'un monocristal de carbure de silicium de haute pureté, elle présente une excellente conductivité thermique, une stabilité mécanique et une résistance aux températures élevées. Grâce à son procédé de préparation de haute précision et à la qualité de ses matériaux, cette puce est l'un des matériaux privilégiés pour la fabrication de dispositifs électroniques hautes performances dans de nombreux domaines.


Détails du produit

Étiquettes de produit

Plaquettes de carbure de silicium semi-isolantes SiC

Les substrats en carbure de silicium sont principalement divisés en types conducteurs et semi-isolants. Les substrats conducteurs et semi-isolants sont principalement utilisés pour la fabrication épitaxiale de LED à base de GaN et d'autres dispositifs optoélectroniques, ainsi que pour les dispositifs électroniques de puissance à base de SiC. Les substrats semi-isolants en carbure de silicium SiC sont principalement utilisés pour la fabrication épitaxiale de dispositifs radiofréquence haute puissance à base de GaN. De plus, les semi-isolants haute pureté HPSI et SI sont différents. Leur concentration en porteurs de charge est comprise entre 3,5 x 1013 et 8 x 1015/cm3, et leur mobilité électronique est élevée. Les semi-isolants sont des matériaux à haute résistance et à résistivité élevée, généralement utilisés pour les substrats de dispositifs micro-ondes non conducteurs.

Feuille de substrat en carbure de silicium semi-isolant Plaquette de SiC

La structure cristalline du SiC détermine ses propriétés physiques par rapport au Si et au GaAs. Le SiC présente les propriétés suivantes : une large bande passante interdite, près de trois fois supérieure à celle du Si, garantissant ainsi un fonctionnement fiable à long terme à haute température ; une intensité de champ de claquage élevée, 10 fois supérieure à celle du Si, garantissant ainsi une tension de fonctionnement optimale ; un taux de saturation électronique élevé, deux fois supérieur à celui du Si, augmentant ainsi la fréquence et la densité de puissance du dispositif ; une conductivité thermique élevée, supérieure à celle du Si, permettant ainsi une miniaturisation du dispositif.

Diagramme détaillé

4H-semi HPSI 2 pouces SiC (1)
4H-semi HPSI 2 pouces SiC (2)

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